一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A.腭杆组织面缓冲 B.取下腭杆 C.取下腭杆后,戴义齿取印模,在...

作者: tihaiku 人气: - 评论: 0
问题 一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是
选项 A.腭杆组织面缓冲 B.取下腭杆 C.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆 D.不做处理,让患者把义齿戴走 E.腭杆组织面加自凝树脂重衬
答案 C
解析

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